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光学掩模版

guāng xué yǎn mó bǎn · ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝˊ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ ㄅㄢˇ

释义

「光学掩模版」是什么意思?

数据更新:2026-07-16 10:42:13

词语光学掩模版
拼音guāng xué yǎn mó bǎn
拼音字母guang xue yan mo ban
拼音首字母gxymb
注音ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝˊ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ ㄅㄢˇ
注音符号ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝ ㄧㄢ ㄇㄛ ㄅㄢ

扩展释义

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。